IONPURE LX-Z CEDI モジュール IP-LXM45Z-5 高容量産業用EDI
Product Details
| IP-LXM45Z-5最小流量M3/HR（GPM）: | 2.57 (11.3) | IP-LXM45Z-5設計流量M3/HR（GPM）: | 5.1-7.67 (22.5-33.8) |
|---|---|---|---|
| IP-LXM45Z-5 発送重量 kg (lbs): | 205 (451) | IP-LXM45Z-5動作重量kg（lbs）: | 157 (345) |
| 回復: | 90~95% | スタック の 利点: | 環境 に 優しい プロセス,継続 的 で シンプル な 操作 |
| シリカ (SiO2) の除去: | 飼料条件に応じて90%~99% | ph: | 4 - 11 |
| ハイライト |
IONPURE LX-Z EDIモジュール,大容量産業用 EDI,CEDI モジュール IP-LXM45Z-5 |
||
Product Description
| 属性 | 値 |
|---|---|
| IP-LXM45Z-5 最小流量 m3/hr (gpm) | 2.57 (11.3) |
| IP-LXM45Z-5 設計流量 m3/hr (gpm) | 5.1-7.67 (22.5-33.8) |
| IP-LXM45Z-5 出荷重量 kg (lbs) | 205 (451) |
| IP-LXM45Z-5 動作重量 kg (lbs) | 157 (345) |
| 回収率 | 90～95% |
| スタックの利点 | 環境に優しいプロセス、連続的でシンプルな操作 |
| シリカ (SiO2) 除去 | 90～99% (供給条件による) |
| pH | 4-11 |
- 化学薬品再生ゼロ: 電気電流を利用してイオン交換樹脂を連続的に再生し、溶解イオン (塩、シリカ、重金属) を酸やアルカリを使用せずに除去します。
- 一貫した高純度: 抵抗率が>16 MΩ*cm の水を生成し、混合床の性能を超え、半導体リンス (SEMI F57) およびボイラー給水に関する厳しい基準を満たしています。
- 構造的完全性: 耐腐食性のCPVCスペーサー、チタン-プラチナ電極、ステンレス鋼カソードを備え、最大7 bar (100 psi) までの圧力と最大45 °C までの温度での連続運転をサポートします。
- 漏れ防止の信頼性: 二重Oリングシールと強化構造フレームにより、高圧運転中の漏れを防止します。
- 適応型電力管理: 0～400V DCおよび0～6Aで動作し、給水導電率 (最大40 μS/cm) と流量に動的に適応して、エネルギー消費を最小限に抑えます。
- 高スループット設計: 5.1 -7.7 m³/h (2,250-3,390 GPH) の超純水を供給し、大規模な工業プラントの集中スキッドに最適です。
| 動作パラメータ | |
|---|---|
| 回収率 | 90-95% |
| DC電圧 | 0-400 |
| DCアンペア数 | 1.0-6.0 |
| 製品水質 | |
| 製品抵抗率 | 最小流量 > 17 MW-cm*† 最大流量 > 7 MW-cm*† |
| シリカ (SiO2) 除去 | 90-99% (供給条件による) |
| 給水導電率相当値 (CO2およびシリカを含む) | < 40 μS/cm |
| 給水源 | RO透過水 |
| 温度 | 5-45˚C (41-113˚F) |
| 入口圧力 | 1.4-6.9 bar (20-100 psig) |
| 最大総塩素 (Cl2として) | < 0.05 ppm |
| 鉄 (Feとして) | < 0.01 ppm |
| マンガン (Mnとして) | < 0.01 ppm |
| 硫化物 (S2-) | < 0.01 ppm |
| pH | 4-11 |
| 総硬度 (CaCO3として) | < 1.0 ppm |
| 溶解性有機物 (TOCとしてC) | < 0.5 ppm |
| シリカ (SiO2) | < 1.0 ppm |
Product Highlights
IONPURE LX-Z CEDIモジュール IP-LXM45Z-5：重要な産業プロセス向けの高容量 製品属性 属性 値 IP-LXM45Z-5 最小流量 m3/hr (gpm) 2.57 (11.3) IP-LXM45Z-5 設計流量 m3/hr (gpm) 5.1-7.67 (22.5-33.8) IP-LXM45Z-5 出荷重量 kg (lbs) 205 (451) IP-LXM45Z-5 動作重量 kg (lbs) 157 (345) 回収率 90～95% スタックの利点 環境に優しいプロセス、連続的でシンプルな操作 シリカ (SiO2) 除去 90～99% (供給条件による) pH ...
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